Term

N5

別名: 5nmクラス

Overview

最終更新: 2026年7月9日

N5は、TSMCが極端紫外線(EUV)リソグラフィを全面的に採用して量産化した5ナノメートル世代の製造プロセスです。前世代のN7と比較して、大幅な論理密度の向上と消費電力の削減を実現し、AppleのAシリーズやMシリーズチップなどの製造に用いられました。

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