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反応性プラズマ蒸着法

別名: RPD法, Reactive Plasma Deposition

Overview

最終更新: 2026年7月9日

反応性プラズマ蒸着法(RPD法)は、住友重機械工業が独自に開発した物理気相成長法(PVD)の一種である。プラズマガンから放出された電子を磁場で制御し、材料を昇華・活性化させることで、基板への熱ダメージを抑えながら高品質な薄膜を形成する。従来のPVD法と比較して、高エネルギー粒子の衝突による下地層へのダメージが極めて少ないため、熱や衝撃に弱いペロブスカイト層の上への電子輸送層(ETL)成膜に最適とされる。また、プラズマ状態を精密に制御することで、酸化スズなどの材料において特定の電気的特性(整流作用など)を持たせることが可能であり、次世代デバイス製造の鍵となる技術として注目されている。

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