テクノロジー
中東情勢の緊迫化が露呈させる半導体サプライチェーンの脆さと地政学リスクの構造
米国とイスラエルによるイランへの攻撃に端を発した中東の軍事的緊張は、単なる地域紛争の枠を超え、世界のテクノロジー産業の根幹を揺るがす事態へと発展している。特に致命的な打撃を受けているのが、現代のデジタル経済に不可欠な半導 […]
Term
極紫外線露光装置
別名: EUV露光装置, Extreme Ultraviolet Lithography
Overview
波長13.5ナノメートルの極端紫外線（EUV）を使用して、シリコンウエハー上に極めて微細な回路パターンを形成する露光技術。7ナノメートル以下の先端半導体プロセスを実現するために必須の装置であり、オランダのASMLが独占的に供給している。極めて高い消費電力を必要とし、安定した電力供給が稼働の前提条件となる。
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