PL-SR

PL-SRは、中国のPrinano Technologyが開発した商用ナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置のシリーズです。光リソグラフィとは異なり、微細な回路パターンが刻まれたモールドをウェハーに直接押し付けるスタンプ方式を採用しています。公表されたスペックでは、線幅10nm未満という極めて高い解像度を実現しており、これは競合するキヤノン製の装置を上回る数値です。300mmウェハーに対応し、インクジェット方式による精密なレジスト塗布や独自のテンプレート制御機構を備えています。主にNANDフラッシュメモリ、マイクロディスプレイ、シリコンフォトニクスなどの製造をターゲットとしています。