ナノインプリントリソグラフィ

ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は、回路パターンを彫り込んだマスク（型）をウェハー上のレジストに直接押し当てて転写する半導体製造技術。従来の投影露光装置に比べて光源の波長による制限を受けず、装置構成がシンプルになるため、消費電力の大幅な削減や製造コストの低減が期待されている。