Term

EUVリソグラフィ装置

別名: 極端紫外線リソグラフィ, EUVリソグラフィー, 極端紫外線リソグラフィー, EUV, Extreme Ultraviolet Lithography, 極端紫外線, EUV露光装置, EUVリソグラフィ, EUVリソグラフィー装置, EUV装置, 極端紫外線露光装置, 極紫外線, Extreme Ultraviolet, 極端紫外線露光

Overview

極端紫外線(Extreme Ultraviolet)を用いて、シリコンウェハー上に極めて微細な回路を描く装置。7nm以下の先端プロセスチップの製造に必須とされるが、高度な技術が必要であり、現在はオランダのASMLが市場を独占している。

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