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EUVリソグラフィ装置

EUVリソグラフィ装置とは、波長13.5nmの極端紫外線を用いて微細な回路パターンを半導体基板に露光する製造装置である。7nm以下の先端ロジックや広帯域メモリの製造に不可欠で、オランダのASMLが世界で唯一供給している。

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