FPA-1200NZ2C

キヤノンが開発したナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術を採用した半導体露光装置。従来の光学的な露光装置とは異なり、回路パターンを刻んだマスクをウェハー上のレジストに直接押し当てることでパターンを形成する。5nm世代の製造に対応し、改良により2nm世代への対応も視野に入れている。