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7nmプロセス

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最終更新: 2026年6月8日

半導体製造における回路線幅の世代を指す。SMICなどのメーカーが、米国の輸出規制下で最先端のEUV露光装置を使わずにDUV露光装置の多重露光技術などで実現している。

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