サイエンス
中国、半導体製造で大きな進展：リソグラフィ欠陥を99%削減する新技術を発表
中国の研究チームが、半導体製造の心臓部である「リソグラフィ」工程において、歩留まりを阻害する微細な欠陥を99%以上削減する画期的な手法を開発した。生物学の分野で利用されてきたクライオ電子線トモグラフィー（Cryo-ET） […]
Term
フォトレジスト
別名: 感光材, Photoresist
Overview
フォトレジストは、半導体リソグラフィ工程においてウェハー表面に塗布される感光性材料である。特定の波長の光が当たると溶解性が変化する性質を持ち、これを利用して微細な回路パターンをウェハー上に形成する。半導体の微細化に伴い、極めて高い純度と解像性能が求められる戦略的な重要材料である。