リソグラフィ

リソグラフィは、半導体製造においてシリコンウェハーの表面に光を用いて微細な回路パターンを形成する技術である。写真の現像に似た原理を用い、感光材を塗布したウェハーにマスクを介して光を照射し、回路を焼き付ける。チップの集積度や性能を左右する最も重要な工程の一つであり、微細化が進む現代では極端紫外線（EUV）を用いた技術などが主流となっている。