テクノロジー
IntelとASML、第2世代High-NA EUV「EXE:5200B」検証完了：時速175枚が告げる2027年「量産」の幕開け
Intelのファウンドリ部門であるIntel Foundryは、ASML製の第2世代High-NA（高開口数）EUV露光装置「TWINSCAN EXE:5200B」の受け入れテストが完了したと発表した。これは研究開発（R […]
Term
Low-NAリソグラフィ
別名: Low-NA EUV
Overview
最終更新: 2026年7月9日現在、最先端チップの製造に広く使用されている標準的なEUV露光技術。TSMCはコストと成熟度の観点から、2nm世代においても当面はこのLow-NA装置を継続利用する方針を示している。
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