テクノロジー
AIと同じ工場で「量子」を量産へ。imecがHigh-NA EUVで刻んだ6ナノメートルの壁
imecは、High-NA EUVリソグラフィを量子デバイス製造に適用し、ゲート間隔6ナノメートルの量子ドットデバイス作製に成功した。これにより、既存の半導体製造技術を量子コンピュータに活用し、実用化へのタイムラインを大幅に圧縮する歴史的な転換点となる。同技術は、シリコンスピン量子ビットの集積密度と電子制御精度を飛躍的に向上させ、エラー耐性を持つ量子コンピュータ実現への道を開く。
Term
クライオCMOS
別名: Cryo-CMOS, 極低温CMOS
Overview
最終更新: 2026年6月8日量子コンピュータの制御に不可欠な電子回路を、量子ビットが動作する極低温環境（ミリケルビン単位）で直接動作させるための技術である。従来のCMOS回路は極低温では特性が変化し、また発熱が量子状態を破壊する問題があったが、クライオCMOSは超低消費電力設計により発熱を最小限に抑えつつ、量子ビットのすぐ近くで高速な制御信号の生成や読み出しを行う。これにより、室温から冷凍機内へ引き込む膨大な配線問題を解決し、量子コンピュータの大規模化を可能にする。
Mentioned Articles
2 件
External Mentions
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