薄膜ニオブ酸リチウム

薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）は、優れた電気光学特性や非線形光学特性を持つ結晶材料であるニオブ酸リチウムを、絶縁体上の薄膜（LNOI）として加工した次世代のフォトニクスプラットフォームである。従来のバルク材料に比べて光を強く閉じ込めることができるため、デバイスの劇的な小型化と低電圧駆動、広帯域化が可能となる。光通信用の超高速変調器や、非線形光学を用いた波長変換デバイス、さらにはテラヘルツ波の生成・検出デバイスの基盤材料として、集積フォトニクスの分野で急速に注目を集めている。