
サイエンス
東大らの新技術が桁違いのSSDとRAMの開発を可能にするかもしれない
東京科学大学と東京大学の研究チームが、半導体技術の歴史に新たな一ページを刻んだ。室温(約300K)を遥かに超える530K(摂氏257度)という驚異的なキュリー温度を持つ強磁性半導体を開発。これは、長年「夢の技術」とされて […]
別名: Step-flow growth
結晶成長において、基板表面に形成された微細な階段構造(ステップ)の端に原子を取り込ませることで、層状に結晶を成長させる手法。本研究では基板を10度傾けることで高密度のステップを形成し、高濃度の鉄を添加しても結晶構造が崩れない精密な制御を実現した。これにより、強磁性半導体の高品質化とキュリー温度の向上に成功した。