
テクノロジー
Canon、2nm世代のチップ開発も視野に入れた半導体製造装置を発売
7nmより微細な先端半導体製造装置は、長らくASMLの独占状態だったが日本のCanonが今後の2nmプロセスチップの製造も視野に入れた新たな半導体製造装置を発表した。 Canonは長年の研究の末、5nm世代の半導体チップ […]
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1984年設立、オランダの企業。半導体製造に用いる露光装置(リソグラフィ装置)を手がけ、先端プロセスに不可欠なEUV(極端紫外線)露光装置を世界で唯一供給する。
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