
中国企業がASML製DUV装置のリバースエンジニアリングに失敗しASMLに修理を依頼
米中間の技術覇権争いが激化する中、中国が半導体製造装置(SPE)の国産化を急ぐ状況で、象徴的な事件が報じられた。中国国内の技術者が、オランダASML社製のDUV(深紫外線)露光装置をリバースエンジニアリング目的で分解した […]
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1984年設立、オランダの企業。半導体製造に用いる露光装置(リソグラフィ装置)を手がけ、先端プロセスに不可欠なEUV(極端紫外線)露光装置を世界で唯一供給する。
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米中間の技術覇権争いが激化する中、中国が半導体製造装置(SPE)の国産化を急ぐ状況で、象徴的な事件が報じられた。中国国内の技術者が、オランダASML社製のDUV(深紫外線)露光装置をリバースエンジニアリング目的で分解した […]

オランダの半導体メーカー、Nexperiaを巡る情勢が緊迫の度を増している。一企業の経営権争いに端を発したかに見えたこの問題は、今やオランダ政府による異例の介入、米国の輸出規制、そして中国の対抗措置という国家間の綱引きへ […]

半導体業界の巨人、TSMCが次世代技術の頂点を目指す巨大プロジェクトをついに本格始動させた。同社は台湾中部サイエンスパーク(中科)において、最先端プロセス「A14」、すなわち1.4ナノメートル(nm)世代の巨大工場(ファ […]

米国の輸出規制という巨大な壁に直面する中国の半導体産業が、密かに極めて戦略的な一歩を踏み出した。中国の装置メーカーPrinano Technologyが、同国初となる国産のナノインプリントリソグラフィ(NIL)システム「 […]
米国による厳しい制裁の網が張られる中、中国のメモリー半導体大手Yangtze Memory Technologies Co. (YMTC) が、その包囲網を突破するかの如く、大胆な一手を打った。同社は、製造装置のすべてを […]
半導体業界の巨人ASMLが築き上げたEUV(極端紫外線)リソグラフィという牙城に、サンフランシスコから現れた無名のスタートアップが真っ向から挑もうとしている。2024年に設立されたばかりのInversion Semico […]

半導体製造最大手のTSMCが、2028年量産開始予定の次世代プロセスノード「A14」において、最先端とされるHigh-NA EUV(高開口数 極端紫外線)リソグラフィ技術の導入を見送る方針を明らかにした。コスト効率を最優 […]
Samsung Electronicsと半導体製造装置の世界最大手ASMLは、韓国・華城(ファソン)に建設予定だった共同研究開発(R&D)センター計画を修正し、代替案を模索していることが明らかになった。ASMLが […]

中国科学院の研究チームが、半導体チップ製造の微細加工に不可欠な波長193ナノメートル(nm)の深紫外(DUV)レーザーをコンパクトな固体光源で生成することに成功した。従来のガスベースのエキシマレーザーとは異なるこのアプロ […]

中国Huaweiが米国制裁を迂回する新たな半導体技術として、独自のEUVリソグラフィ装置の開発を進めている。従来のASML製造装置とは異なるレーザー誘起放電プラズマ(LDP)技術を採用したこの装置は、現在東莞施設でテスト […]

中国企業による半導体製造装置の購入額は、2025年には減少に転じる見通しだ。米国の制裁強化と成熟プロセスにおける過剰生産能力が主な要因として挙げられる。TechInsightsなどの調査会社は、中国の設備投資額が前年比6 […]

中国の主要DRAMメーカーChangxin Memory Technologies (CXMT)が主張するDDR5メモリの80%という歩留まり率について、韓国メディアと業界専門家が強い疑念を示している。この論争は、急速に […]