テクノロジー
ASML独占に風穴か?Inversion Semiconductorが挑む「小型粒子加速器」による次世代EUVリソグラフィ
半導体業界の巨人ASMLが築き上げたEUV(極端紫外線)リソグラフィという牙城に、サンフランシスコから現れた無名のスタートアップが真っ向から挑もうとしている。2024年に設立されたばかりのInversion Semico […]
Inversion Semiconductor社が開発を進めている、レーザー航跡場加速(LWFA)技術を応用した革新的なリソグラフィ用光源。従来のLPP方式が1kW程度の出力限界に直面しているのに対し、STARLIGHTは最大10kWの高出力を目標としており、ウェハー処理速度の劇的な向上を目指している。また、電子のエネルギー調整により、現在の13.5nmから次世代の6.7nmまで波長を柔軟に変更できるチューナビリティや、位相の揃った高いコヒーレンスを持つことが特徴とされる。