
テクノロジー
マスク氏の「FEL FTW」発言は東京エレクトロンも無縁でない、EUV光源が迫る調達構造転換の兆し
Elon MuskがXで示唆した自由電子レーザー式EUV光源は、ASML独占への即時の脅威ではなく、光源を装置の部品から工場インフラへ変える技術的な一石だ。X投稿の時系列を分単位で再構成し、xLightへの政府出資規模とTerafab投資額の差を試算する。
別名: Inversion Semiconductor
2024年に設立されたサンフランシスコを拠点とする半導体技術スタートアップ。極端紫外線(EUV)リソグラフィの分野で、従来のレーザー生成プラズマ(LPP)方式に代わる、小型粒子加速器を活用した革新的な光源技術の開発を目指している。同社の技術は「レーザー航跡場加速(LWFA)」を基盤としており、従来の巨大な加速器施設をテーブルトップサイズにまで小型化し、半導体製造装置への組み込みを可能にすると主張している。これにより、光源出力を大幅に向上させ、半導体製造プロセスを最大15倍高速化すること、さらには次世代の波長である6.7nmへの対応を視野に入れている。Y Combinatorの支援を受け、ローレンス・バークレー国立研究所とも提携している。

Elon MuskがXで示唆した自由電子レーザー式EUV光源は、ASML独占への即時の脅威ではなく、光源を装置の部品から工場インフラへ変える技術的な一石だ。X投稿の時系列を分単位で再構成し、xLightへの政府出資規模とTerafab投資額の差を試算する。
半導体業界の巨人ASMLが築き上げたEUV(極端紫外線)リソグラフィという牙城に、サンフランシスコから現れた無名のスタートアップが真っ向から挑もうとしている。2024年に設立されたばかりのInversion Semico […]