テクノロジー
Intelのアリゾナ砂漠に浮かぶ最新鋭工場「Fab 52」の深層と「18A」歩留まりの真実、そしてファウンドリー分離論の行方
かつて「シリコンバレー」の名の通り、半導体業界の絶対王者として君臨したIntel。しかし、近年の時価総額の急落と技術的な遅れは、同社を創業以来の危機的状況へと追い込んだ。だが現在、アリゾナ州チャンドラーの広大な砂漠地帯に […]
Tech Product
Twinscan NXE:3800E
Overview
最終更新: 2026年8月24日オランダのASML社が提供する、最先端の極端紫外線（EUV）露光装置。次世代のHigh-NA EUV装置からウェハーハンドリング技術などを流用しており、時間当たり220枚という高いスループット（処理能力）を実現している。IntelのFab 52に導入され、18Aプロセスなどの量産に貢献している。