マスクレス露光技術

マスクレス露光技術は、半導体やディスプレイの製造プロセスにおいて、従来の露光装置で必須だった「フォトマスク（原版）」を使用せずに回路パターンを形成する技術である。空間光変調器（SLM）などのデバイスを用い、デジタルデータとして入力されたパターンを光源で直接基板に投影する。この方式の利点は、高価なフォトマスクの製作コストを完全に排除できること、および設計変更（デザインの修正）に対してデータ更新のみで即座に対応できる柔軟性にある。これにより、多品種少量生産やプロトタイプ開発の期間を大幅に短縮できる。また、物理的なマスクのサイズ制約を受けないため、パネルレベルパッケージングのような超大型基板への露光にも適している。ニコンのDSP-100などの次世代装置において、生産性と柔軟性を両立させるための基幹技術として採用されている。