Term

NanoFlex

Overview

最終更新: 2026年7月9日

TSMCの2nmプロセス(N2)で導入される設計最適化技術。設計者が同じブロック内で高性能、低消費電力、高密度といった異なる特性のセルを混在・最適化することを可能にし、チップ全体の性能と効率を最大化する。

Mentioned Articles

3 件