テクノロジー
Samsungは2028年、TSMCは2030年にHigh-NA EUV導入へ
SamsungとTSMCは大型マスクの完成前にHigh-NA EUV量産へ踏み出す。2028〜2033年の工程表から、解像度を先取りし処理能力を後で高める二段階移行を読み解く。
Tech Product
Twinscan EXE:5000
Overview
最終更新: 2026年9月14日Twinscan EXE:5000は、ASMLが提供する次世代の露光装置です。0.55の開口数（NA）を備え、Intelなどの顧客が次世代の微細プロセス（Intel 14Aなど）を開発・量産するために使用されます。
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- テクノロジー
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