テクノロジー
AIと同じ工場で「量子」を量産へ。imecがHigh-NA EUVで刻んだ6ナノメートルの壁
imecは、High-NA EUVリソグラフィを量子デバイス製造に適用し、ゲート間隔6ナノメートルの量子ドットデバイス作製に成功した。これにより、既存の半導体製造技術を量子コンピュータに活用し、実用化へのタイムラインを大幅に圧縮する歴史的な転換点となる。同技術は、シリコンスピン量子ビットの集積密度と電子制御精度を飛躍的に向上させ、エラー耐性を持つ量子コンピュータ実現への道を開く。
Company
imec
別名: アイメック, imec, IMEC
Overview
ベルギーのルーヴェンに本部を置く、世界最高峰の半導体研究開発機関。産学連携のハブとして機能し、ASMLやTSMC、Intelといった主要な半導体企業と提携して次世代の微細加工技術を開発している。特にリソグラフィ技術や新材料、ナノテクノロジーを用いたデバイス構造の研究で世界をリードしており、今回のHigh-NA EUVを用いた量子デバイス製造のように、既存の半導体製造プロセスを量子コンピュータに応用する研究でも重要な役割を果たしている。
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