Intel 18A、2027年の利益率改善へ前倒し進行か
Intelの次世代製造プロセス18Aは、製品化の段階から収益性を左右する歩留まり改善へと焦点が移った。2027年末の目標に向けた歩留まり向上は計画より前倒しで進んでおり、同社は18Aでの量産と利益率確保の両立により、損益構造の劇的な改善を目指す。
別名: 14A, Intel 14A
Intel 14Aは、Intelが開発を進める次世代の半導体製造プロセス技術だ。これは、現在の最先端プロセスであるIntel 18Aの後継にあたり、ゲート長が1.4nmクラスに微細化される見込みである。この超微細プロセスは、データセンター向けCPU、高性能GPU、AIアクセラレータ、エッジAIデバイスなど、高い演算能力と電力効率が求められる次世代半導体の製造に不可欠となる。特に、ムーアの法則の限界に挑むIntelの技術ロードマップにおいて、極めて重要な位置を占める。
Intel 14Aは、High-NA EUV(高NA極端紫外線リソグラフィ)技術の本格的な導入を前提としている。High-NA EUVは、従来のEUVよりも高い開口数(NA)を持つレンズを使用することで、より微細なパターン形成を可能にする。これにより、トランジスタ密度を飛躍的に向上させ、消費電力の削減と性能の向上を両立させることを目指す。Intelは、このプロセスノードでRibbonFET(ゲートオールアラウンド構造)やPowerVia(裏面給電技術)といった先進的なトランジスタ構造や配線技術をさらに進化させると予想される。
Intel 14Aは、TSMCやSamsungといった競合他社の次世代プロセスと直接競合する。Intelは、この14Aプロセスを自社製品だけでなく、Intel Foundryを通じて外部顧客にも提供することで、ファウンドリ事業の拡大を図る戦略だ。この技術の実現は、半導体業界全体の技術革新を加速させ、AIやHPC(高性能計算)といった分野の発展を強力に後押しする。Intelの技術ロードマップにおける重要なマイルストーンであり、その進捗は業界から大きな注目を集めている。
Intelの次世代製造プロセス18Aは、製品化の段階から収益性を左右する歩留まり改善へと焦点が移った。2027年末の目標に向けた歩留まり向上は計画より前倒しで進んでおり、同社は18Aでの量産と利益率確保の両立により、損益構造の劇的な改善を目指す。
Intelは1.4nmクラスの「14A」プロセス開発ロードマップを公開し、2026年10月にPDK 0.9を外部顧客へ提供すると発表した。2030年代を見据えた「10A」および「7A」プロセスの開発にも着手し、High-NA EUV露光技術や裏面電源供給により競合との差別化を図ることで、長期的な信頼関係を構築しファウンドリ事業の成功を目指す。
Intelは、AI需要を背景に旧世代チップの供給を絞り、OEM各社に新世代の18Aプロセスチップへの移行を実質的に強制している。これは、歩留まり改善が進む18Aプロセスで量産体制を確立し、Appleなどの大手顧客を取り込み、2027年までにファウンドリ事業を採算化させるための戦略だ。
Intelは2026年第1四半期決算で粗利益率41%を達成し、従来スクラップとして廃棄されていた低性能CPUダイをAIデータセンター向けに販売することで収益を劇的に改善した。これはAI需要の爆発的増加が半導体業界の価値基準を変化させ、製造ラインから生まれるほぼ全てのシリコンを収益化可能にした結果である。
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