サイエンス
サブ1nmノードを拓く2次元半導体：MoS2ウェハーの「自己整合」と「界面浄化」がもたらす転写レス製造革命
シリコンの微細化限界を打破するため、二硫化モリブデンの単結晶をウェハー規模で合成する新技術が開発された。自己整合的な結晶成長と膜厚の自動停止機構により、欠陥の極めて少ない原子層厚の半導体膜が実現し、次世代デバイスの実用化に大きく前進した。
Term
短チャネル効果
別名: Short-channel effects
Overview
最終更新: 2026年7月9日半導体素子の微細化に伴い、ゲート電極によるチャネルの制御力が弱まり、閾値電圧の低下やオフ電流の増大を招く物理現象。従来のシリコンデバイスにおける微細化の主要な障壁となっている。
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