テクノロジー
3D NAND製造に革新、エッチング速度2倍の新技術でSSD高速化・大容量化に期待
3D NAND型フラッシュメモリの製造プロセスに革新が起ころうとしている。研究者らが開発した新しいプラズマエッチング技術により、製造効率が大幅に向上し、将来的にはSSDやメモリカードなどのストレージデバイスの高速化・大容 […]
Term
三フッ化リン
別名: PF3
Overview
最終更新: 2026年7月9日三フッ化リン（PF3）は、無色無臭の有毒なガスであり、半導体製造において特定の材料のエッチングレートを調整するための添加ガスとして利用されることがある。本記事の研究では、フッ化水素プラズマプロセスに三フッ化リンを添加することで、二酸化ケイ素のエッチング速度を4倍に高める効果が確認されている。