テクノロジー
3D NAND製造に革新、エッチング速度2倍の新技術でSSD高速化・大容量化に期待
3D NAND型フラッシュメモリの製造プロセスに革新が起ころうとしている。研究者らが開発した新しいプラズマエッチング技術により、製造効率が大幅に向上し、将来的にはSSDやメモリカードなどのストレージデバイスの高速化・大容 […]
Term
プラズマエッチング
別名: Plasma etching
Overview
最終更新: 2026年7月9日プラズマエッチングは、反応性の高いガスをプラズマ化し、その化学反応やイオンの衝突を利用して半導体ウェハー上の特定の材料を削り取る技術である。微細な回路パターンを形成するために不可欠な工程であり、特に3D NAND製造では、積層された多層膜に対して深く垂直な穴を形成する「高アスペクト比エッチング」が重要な課題となっている。