テクノロジー
HuaweiがLDP技術で独自EUVリソグラフィ装置を開発：2026年量産へ
中国Huaweiが米国制裁を迂回する新たな半導体技術として、独自のEUVリソグラフィ装置の開発を進めている。従来のASML製造装置とは異なるレーザー誘起放電プラズマ（LDP）技術を採用したこの装置は、現在東莞施設でテスト […]
Term
レーザー生成プラズマ
別名: LPP, Laser-Produced Plasma
Overview
最終更新: 2026年7月9日レーザー生成プラズマ（LPP）は、半導体露光装置で極端紫外線（EUV）を得るための主要な方式。高出力の二酸化炭素レーザーを高速で落下するスズの液滴に照射し、高温プラズマを発生させることで13.5nmの波長の光を取り出す。極めて高度な制御技術と大規模な光学系を必要とし、現在はASMLのEUV露光装置における標準的な光源技術として採用されている。