Rapidus、2nmプロセス量産に向けEUVリソグラフィマシン10台導入へ
日本のRapidusが、2nmプロセス技術を用いた半導体量産に向け、極紫外線(EUV)リソグラフィマシンを2つの工場に計10台導入する計画が明らかになった。日本国内へのEUV露光装置導入は今回が初となり、半導体産業の復興 […]
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アメリカの半導体・通信機器設計大手。
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日本のRapidusが、2nmプロセス技術を用いた半導体量産に向け、極紫外線(EUV)リソグラフィマシンを2つの工場に計10台導入する計画が明らかになった。日本国内へのEUV露光装置導入は今回が初となり、半導体産業の復興 […]
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