テクノロジー
Rapidus 2nmプロセス、ロジック密度でTSMC N2と技術的同等性を達成か
日本の半導体製造ベンチャーRapidusが開発中の2nmプロセス「2HP」が、業界の巨人TSMCの次世代プロセス「N2」と実質的に同等のロジック密度を達成したことが報じられている。これは、長らく台湾と韓国のメーカーが支配 […]
別名: Rapidus 2HP
2HPは、日本の半導体メーカーRapidusが開発を進めている2nm(ナノメートル)世代のロジック半導体製造プロセスである。このプロセスでは、従来のFinFET構造に代わる次世代トランジスタ構造であるGAA(Gate-All-Around)技術を採用している。最新のデータでは、ロジック密度において業界最大手のTSMCが展開するN2プロセスと実質的に同等の数値を達成していると報じられた。Rapidusは、全工程を1枚ずつ処理する「枚葉式」の製造手法を導入することで、開発期間の短縮と高い歩留まりの両立を目指しており、2025年4月には試作ラインの稼働、2027年の量産開始を計画している。