テクノロジー
Applied Materials、原子レベルの「オングストローム時代」を拓く3つの新装置を発表
半導体製造装置の巨人、Applied Materials（AMAT）が、AIコンピューティングの性能を飛躍させるための3つの革新的な製造システムを発表した。世界初の統合型ダイ・ツー・ウェハー・ハイブリッドボンディングシス […]
Tech Product
Centura Xtera
別名: Centura Xtera Epi System
Overview
Centura Xteraは、2nmプロセス以降の先端ロジック半導体で採用されるGAA（Gate-All-Around）トランジスタの製造に特化したエピタキシャル成膜装置である。独自のチャンバー設計と、堆積とエッチングを連続的に制御する技術により、微細な構造内でのボイド（空隙）発生を完全に抑制する。従来技術と比較してセル間の均一性を40%以上改善し、ガス消費量を50%削減するなど、原子レベルでの精密な材料制御を可能にすることで、次世代トランジスタの歩留まり向上に貢献する。