Intel 4

Intelの製造プロセスロードマップにおける重要な節目となるノード。従来の7nmプロセス（Intel 7）の次世代にあたり、極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術を全面的に採用することで、電力効率と集積度を大幅に向上させた。Meteor Lake世代のCPU製造から導入が開始されている。