テクノロジー
ASML、生産性50%向上を実現するEUV光源1,000W化技術を明らかに：AI半導体供給網のボトルネックを打破につながるか
半導体産業は現在、かつてない規模のスーパーサイクルの中にあり、供給網全体の再編を余儀なくされている。ファブレスメーカーからの設計要求は極度の複雑化をたどり、特にデータセンターやエンタープライズ向けのAIハードウェア需要が […]
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リソグラフィマシン
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テクノロジー「中国製EUV」がついに完成か：米国が最も恐れた半導体ブレイクスルーの全貌と「マンハッタン計画」の真実
2025年12月、世界の半導体産業を揺るがす衝撃的なニュースが深センから飛び込んできた。長年、米国主導の輸出規制によって封じ込められてきたはずの中国が、ついに国産のEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置のプロトタイプを完成 […]
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テクノロジー米政府、元Intel CEOゲルシンガー氏が支援するxLightに1.5億ドル出資：半導体製造の“光”に賭ける米国の野望とは
2025年12月1日、米国商務省はシリコンバレーのスタートアップ企業「xLight」に対し、CHIPS法（CHIPS and Science Act）に基づき最大1億5,000万ドル（約225億円）の資金を注入することで […]
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テクノロジーASML打倒を目指すSubstrateは10億ドル詐欺の壮大な序章か？半導体業界を揺るがすスタートアップの深層と5つの重大疑惑
先端リソグラフィマシンで業界を独占する半導体業界の巨人ASMLに真っ向から勝負を挑む。そんな野心的な目標を掲げ、先日ステルスモードを脱したスタートアップ「Substrate」が、業界に衝撃を与える一方で、その存在自体を問 […]
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サイエンス中国、半導体製造で大きな進展：リソグラフィ欠陥を99%削減する新技術を発表
中国の研究チームが、半導体製造の心臓部である「リソグラフィ」工程において、歩留まりを阻害する微細な欠陥を99%以上削減する画期的な手法を開発した。生物学の分野で利用されてきたクライオ電子線トモグラフィー（Cryo-ET） […]
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テクノロジーASML独占に風穴か？Inversion Semiconductorが挑む「小型粒子加速器」による次世代EUVリソグラフィ
半導体業界の巨人ASMLが築き上げたEUV（極端紫外線）リソグラフィという牙城に、サンフランシスコから現れた無名のスタートアップが真っ向から挑もうとしている。2024年に設立されたばかりのInversion Semico […]