ASML、生産性50%向上を実現するEUV光源1,000W化技術を明らかに:AI半導体供給網のボトルネックを打破につながるか
半導体産業は現在、かつてない規模のスーパーサイクルの中にあり、供給網全体の再編を余儀なくされている。ファブレスメーカーからの設計要求は極度の複雑化をたどり、特にデータセンターやエンタープライズ向けのAIハードウェア需要が […]
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半導体産業は現在、かつてない規模のスーパーサイクルの中にあり、供給網全体の再編を余儀なくされている。ファブレスメーカーからの設計要求は極度の複雑化をたどり、特にデータセンターやエンタープライズ向けのAIハードウェア需要が […]
2025年12月、世界の半導体産業を揺るがす衝撃的なニュースが深センから飛び込んできた。長年、米国主導の輸出規制によって封じ込められてきたはずの中国が、ついに国産のEUV(極端紫外線)リソグラフィ装置のプロトタイプを完成 […]
2025年12月1日、米国商務省はシリコンバレーのスタートアップ企業「xLight」に対し、CHIPS法(CHIPS and Science Act)に基づき最大1億5,000万ドル(約225億円)の資金を注入することで […]
先端リソグラフィマシンで業界を独占する半導体業界の巨人ASMLに真っ向から勝負を挑む。そんな野心的な目標を掲げ、先日ステルスモードを脱したスタートアップ「Substrate」が、業界に衝撃を与える一方で、その存在自体を問 […]
中国の研究チームが、半導体製造の心臓部である「リソグラフィ」工程において、歩留まりを阻害する微細な欠陥を99%以上削減する画期的な手法を開発した。生物学の分野で利用されてきたクライオ電子線トモグラフィー(Cryo-ET) […]
半導体業界の巨人ASMLが築き上げたEUV(極端紫外線)リソグラフィという牙城に、サンフランシスコから現れた無名のスタートアップが真っ向から挑もうとしている。2024年に設立されたばかりのInversion Semico […]
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