ArF液浸リソグラフィ

ArF液浸リソグラフィは、波長193nmのArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザーを光源とする露光技術の一種である。投影レンズとシリコンウェハの間に純水などの液体を満たすことで、光の屈折率を利用して実質的な開口数（NA）を高め、より微細な回路パターンを転写する。EUV（極端紫外線）技術が登場するまでの最先端技術であり、現在もAI半導体の中間配線層や汎用チップの量産において、DUV（深紫外線）領域の主力装置として広く利用されている。