EUV

EUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外線）は、波長13.5nmという極めて短い光を用いたリソグラフィ技術である。従来のArF液浸露光（波長193nm）では困難だった7nmプロセス以降の極微細な回路パターンの形成を可能にする。装置の開発には膨大な投資と高度な光学技術が必要であり、現在はオランダのASMLが世界で唯一量産装置を供給している。最先端のCPUやGPU、AIアクセラレータの製造において、最も重要な工程を担う技術である。