中国で国産の液浸深紫外線（DUV）露光装置が、試作段階から年5台規模の生産へ進んだ。The Informationが2026年7月27日、上海の国有系企業が製造を始めたと報じた。だが、装置を作り始めることと、その装置で半導体を安定して量産することの間には、顧客工場での長い認定工程がある。メーカー名も性能仕様も公表されておらず、今回動いたのはASML代替の完成ではなく、商用化に向けた最初の反復である。

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年5台で動いたのは装置製造

The Informationは事情を知る2人の話として、メーカー名を伏せた上海の国有系企業が液浸DUV露光装置を製造していると伝えた。2026年の生産計画は約5台で、Semiconductor Manufacturing International Corporation（SMIC）、Hua Hong Semiconductor、ChangXin Memory Technologies（CXMT）へ年内に納める予定だという。2027年には約20台へ増やす。同社はShanghai Yuliangsheng Technologyを含む複数の中国企業から開発チームを集めたとされるため、製造主体をYuliangshengと断定することはできない。

変化点は、試作機を送って評価を受ける段階から、複数の顧客へ装置を供給する段階へ移ったことにある。The Informationによると、匿名企業は2025年に試作機を一部の半導体メーカーへ送り、その評価結果を受けて2026年の生産に踏み切った。顧客が3社に広がれば、ロジックとメモリを扱う異なる製造現場から不具合と改善要求が返ってくる。国産装置を反復して改良するための回路が、商用ラインの手前までつながる。

ただし、ここでいう生産開始は露光装置を作る側の話だ。The Informationも、中国製装置を顧客の量産ラインへ移すには数カ月以上かかり得るとしている。2026年の5台は完成した産業基盤の規模ではなく、顧客認定と改良を並行して進める初期ロットと見るのが妥当である。

公開仕様だけでは液浸機の実力を測れない

中国工業情報化部は2024年9月、国が普及を支援する初台・初ロットの重大技術装備目録に、300mmウエハー向けのフッ化アルゴン（ArF）露光装置を載せた。記載された光源波長は193nm、解像度は65nm以下、重ね合わせ精度は8nm以下である。一方、メーカー名と液浸方式は示していない。処理枚数と稼働率も不明だ。この目録の装置と今回報じられた液浸DUVが同じ製品だと結び付ける公表資料もない。

比較基準になるASMLのTWINSCAN NXT:2000iは、300mmウエハーの量産向け液浸装置である。公式仕様では同じ193nmのArF光源を使い、開口数（NA）は1.35、解像度は照明条件に応じて40nmまたは38nm、製品上の装置間重ね合わせ精度は2.5nmだ。液浸では投影レンズとウエハーの間に水を満たしてNAを高め、同じ波長でも細かな像を結べる。

公開情報 中国工業情報化部のArF区分 ASML NXT:2000i 今回報じられた中国製液浸DUV
対応ウエハー 300mm 300mm 未公表
光源波長 193nm 193nm 未公表
解像度 65nm以下 40nmまたは38nm 未公表
重ね合わせ精度 8nm以下 2.5nm 未公表
液浸方式 記載なし 採用 採用と報道

表から分かるのは、中国にArF露光装置の政策目標があることと、今回の製品性能を確認できることは別だという点である。先端プロセスで同じ層を複数回露光するほど、各回の位置ずれが積み重なりやすい。中国製装置がASML依存を実際に減らせるかは、「液浸」という名称より、重ね合わせ精度を長時間維持できるかで決まる。

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顧客工場で続く認定工程

ASMLは年次報告書で、出荷前のFactory Acceptance Test（FAT）と、顧客工場へ設置した後のSite Acceptance Test（SAT）を説明している。工場で契約仕様を確認し、設置先でも性能を再試験する二段階の受け入れだ。実績が確立していない技術では、設置とSATを終えて顧客が受け入れるまで売上を認識しない。中国製装置が同じ契約手順を採るとは限らないが、露光装置を製造ラインへ入れる際に、出荷と稼働の間へ認定が入る理由はここにある。

今回の中国製装置も、精度、信頼性、他の製造装置との互換性を顧客側が検証するとThe Informationは報じている。現状はASML製に性能と製造品質で及ばず、認定には数カ月、場合によってはそれ以上を要する見通しだ。SMIC、Hua Hong、CXMTへの納入はゴールではない。各社が既存工程へ組み込み、連続運転で仕様を保ち、許容できる歩留まりでウエハーを流せるかを確かめて初めて生産能力になる。

供給網にも未解決の部分が残る。部品の大半は中国製になった一方、一部の重要部品は日本から調達しており、中国国内サプライヤーの遅れが2026年の生産を抑えたという。国産部品の比率と、必要な部品を予定どおり揃えられることは別の条件だ。約5台から約20台へ約4倍に増やす計画は、装置設計の完成度に加え、部品メーカーが同じ品質を繰り返し出せるかにも左右される。

液浸DUVは成熟プロセスの生産能力を増やせるほか、同じ層を繰り返し露光するマルチパターニングで微細化を進められる。ただし、露光回数が増えれば工程とコストが増し、位置ずれは歩留まりを圧迫する。成熟ノードの単回露光を担えることと、先端チップを経済的に量産できることは同義ではない。

5台対131台、規制対応より先に規模の壁

ASMLの2025年販売実績はArF液浸装置だけで131台だった。中国側の2026年計画である約5台とは、比較する年が異なるとはいえ一桁以上の差がある。しかもASMLは、露光精度を維持したまま大量の装置を組み立て、設置し、保守する体制を長年運用してきた。初期ロットの成功が直ちに中国市場での置き換えへつながらない理由である。

それでも、輸出規制が強まるほど国産機を育てる意味は増す。米下院外交委員会は2026年4月22日、半導体製造装置の規制を同盟国とそろえるMATCH Act（H.R. 8170）を委員会で前進させた。修正案はDUV光源などを供給上の要所の候補に挙げ、対象工場にある装置の保守にも許可を求める枠組みを置く。2026年7月28日時点では成立法ではないが、新規装置と保守の両方が政策対象になり得るため、中国企業には国内で交換可能な装置とサービス網を作る動機がある。

2027年の約20台が現実になるには、2026年の初期機が顧客工場で精度と稼働率を示し、遅れている国内サプライヤーが増産に追いつく必要がある。その二つが揃えば、中国の液浸DUVは政策目標から継続的な産業能力へ進む。揃わなければ、今回の「量産」は5台規模の検証ロットにとどまることになる。