テクノロジー
CoWoS高騰がガラス基板2027年商用化を後押し:AI半導体の次の量産焦点は2030年へ
AIチップの大型化に伴い、従来の有機基板に代わるガラス基板技術が注目されており、2027年頃の商用化が見込まれている。TSMCやインテル、韓国メーカー各社が開発を加速させており、コスト削減や熱対策、高密度接続を実現する次世代の量産基板として期待される。
別名: TGV, Through Glass Via
ガラス基板の厚さ方向に貫通する穴を形成し、導電性材料を充填することで、基板の表裏や積層されたチップ間を電気的に接続する技術。ガラス基板をインターポーザとして利用する際に不可欠な技術であり、シリコン貫通電極(TSV)と比較して低損失かつ高周波特性に優れるという特徴がある。
AIチップの大型化に伴い、従来の有機基板に代わるガラス基板技術が注目されており、2027年頃の商用化が見込まれている。TSMCやインテル、韓国メーカー各社が開発を加速させており、コスト削減や熱対策、高密度接続を実現する次世代の量産基板として期待される。
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