テクノロジー
SK hynix、「世界最大のメガファブ複合施設」に総額13兆円を投資、2027年に最初のファブが稼働へ
SK hynixは、2025年3月に龍仁半導体クラスターと呼ばれるメガファブ複合施設の建設を開始し、2046年に完成する予定だ。 2046年の全稼働を目指す世界一のメガファブ複合施設 韓国通商産業エネルギー省の声明による […]
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EUVリソグラフィ
EUVリソグラフィとは、波長13.5nmの極端紫外線を用いてシリコンウェハー上に微細な回路パターンを露光形成する半導体製造技術である。先端ロジック半導体やDRAMの量産に不可欠で、ASMLが装置を独占供給している。
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