テクノロジー
早くも1.0nm「10A」着手、Intelが最先端半導体のロードマップを前倒し
Intelは1.4nmクラスの「14A」プロセス開発ロードマップを公開し、2026年10月にPDK 0.9を外部顧客へ提供すると発表した。2030年代を見据えた「10A」および「7A」プロセスの開発にも着手し、High-NA EUV露光技術や裏面電源供給により競合との差別化を図ることで、長期的な信頼関係を構築しファウンドリ事業の成功を目指す。
Term
High-NAリソグラフィ
別名: High-NA EUV
Overview
開口数（NA）を従来の0.33から0.55に高めた次世代のEUV露光装置。より微細な回路パターンの転写が可能になり、2nm以下のプロセス微細化において不可欠な技術とされる。ASMLが独占的に供給している。
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