
ASML、生産性50%向上を実現するEUV光源1,000W化技術を明らかに:AI半導体供給網のボトルネックを打破につながるか
半導体産業は現在、かつてない規模のスーパーサイクルの中にあり、供給網全体の再編を余儀なくされている。ファブレスメーカーからの設計要求は極度の複雑化をたどり、特にデータセンターやエンタープライズ向けのAIハードウェア需要が […]

半導体産業は現在、かつてない規模のスーパーサイクルの中にあり、供給網全体の再編を余儀なくされている。ファブレスメーカーからの設計要求は極度の複雑化をたどり、特にデータセンターやエンタープライズ向けのAIハードウェア需要が […]

かつて「シリコンバレー」の名の通り、半導体業界の絶対王者として君臨したIntel。しかし、近年の時価総額の急落と技術的な遅れは、同社を創業以来の危機的状況へと追い込んだ。だが現在、アリゾナ州チャンドラーの広大な砂漠地帯に […]

2025年12月、世界の半導体産業を揺るがす衝撃的なニュースが深センから飛び込んできた。長年、米国主導の輸出規制によって封じ込められてきたはずの中国が、ついに国産のEUV(極端紫外線)リソグラフィ装置のプロトタイプを完成 […]

Intelのファウンドリ部門であるIntel Foundryは、ASML製の第2世代High-NA(高開口数)EUV露光装置「TWINSCAN EXE:5200B」の受け入れテストが完了したと発表した。これは研究開発(R […]

Intel Foundryが開発を進める次世代プロセスノード「Intel 14A」に対し、初期の顧客企業から極めて高い評価が寄せられていることが明らかになった。 経営体制の刷新、レイオフ、そして米国政府による関与の強化な […]

先端リソグラフィマシンで業界を独占する半導体業界の巨人ASMLに真っ向から勝負を挑む。そんな野心的な目標を掲げ、先日ステルスモードを脱したスタートアップ「Substrate」が、業界に衝撃を与える一方で、その存在自体を問 […]

米中間の技術覇権争いが激化する中、中国が半導体製造装置(SPE)の国産化を急ぐ状況で、象徴的な事件が報じられた。中国国内の技術者が、オランダASML社製のDUV(深紫外線)露光装置をリバースエンジニアリング目的で分解した […]

半導体業界の巨人、Intelが未来を賭けた大きな一歩を踏み出した。同社が、次世代半導体製造に不可欠とされるASML製の最先端露光装置「High-NA EUV」の注文を増加させたことが明らかになった。この動きは、かつての技 […]

2025年9月、半導体製造装置のASMLが、フランスのAIスタートアップMistral AIに13億ユーロ(約2,250億円)を投じ、最大株主になるというニュースが世界を駆け巡った。これは米中が繰り広げる技術覇権競争の狭 […]

韓国のメモリ大手SK hynixは2025年9月3日、業界で初めて次世代リソグラフィ技術「High-NA EUV」の商用システムを量産ラインに導入したと発表した。これは、次世代DRAM開発における技術的優位性を確立するだ […]

半導体製造装置で世界をリードするオランダのASMLが、1台4億ドル(約600億円)以上という破格の新型「High-NA」極端紫外線(EUV)リソグラフィ装置の製造現場を、米CNBCのカメラに初めて公開した。この一台が、ス […]

世界唯一の最先端EUV(極端紫外線)露光装置メーカーとして、現代のデジタル社会を根底から支えるオランダの巨人、ASML。同社が本拠地アイントホーフェン近郊に計画する、サッカー場約50個分にも相当する壮大な新拠点の建設計画 […]